H26M3A001AMR需求内存颗粒

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SK海力士已经确认与台积电在下一代高带宽存储器（HBM）的量产上合作。SK海力士决定将HBM4基础芯片的半导体前端工艺（FEOL）、硅通孔（TSV）形成、BEOL等交由台积电负责，而从晶圆测试到HBM组装、已知良好堆叠芯片（KGSD）测试等后续工艺则在自家的后端工艺工厂进行。这意味着传统的前道工艺将由台积电承担，之后的工艺则由SK海力士负责。
美光AI服务器展望：美光认为2024年整体服务器出货量将同比增长中到高个位数，其中AI服务器同比增长更高，传统服务器的增长将是温和的，而GPU平台采用的HBM容量稳步增长，如一些新GPU平台搭载的HBM容量进一步增长33%至192GB。HBM产能策略：美光目标是在2025年其HBM的市场份额与DRAM的份额保持一致，而HBM产量增加将限制非HBM产品的供应增长。在整个行业范围内，同一技术节点下生产相同数量的Bit，HBM3E消耗的晶圆供应量约是DDR5的三倍，HBM的强劲需求以及HBM产品路线图的持续发展，将导致终端市场DRAM供应出现紧张现象。HBM产品发展：美光已开始出货HBM3E产品，将供应至Nvidia H200 Tensor Core GPU，正与多个客户在其他平台进行认证。美光2024年HBM产能已售罄，2025年绝大多数供应已被分配，部分价格已确定，预计HBM3E 12H将在2025年大量生产并增加更多的产品组合。
MOS管型防反接保护电路利用了MOS管的开关特性，控制电路的导通和断开来设计防反接保护电路，由于功率MOS管的内阻很小，现在MOSFETRds（on）已经能够做到毫欧级，解决了现有采用二极管电源防反接方案存在的压降和功耗过大的问题。极性反接保护将保护用场效应管与被保护电路串联连接。一旦被保护电路的电源极性反接，保护用场效应管会形成断路，防止电流烧毁电路中的场效应管元件，保护整体电路。N沟道MOS管防反接保护电路电路如示N沟道MOS管通过S管脚和D管脚串接于电源和负载之间，电阻R1为MOS管提供电压偏置，利用MOS管的开关特性控制电路的导通和断开，从而防止电源反接给负载带来损坏。
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半导体制造业呈现出积极的复苏迹象。报告显示，电子产品销售呈现增长势头，库存水平稳定，晶圆厂的装机产能也在提升，预示着下半年行业增长势头将进一步加强。


SEMI与TechInsights联合发布的2024年季度半导体产业监控报告指出，上一季度电子产品销售同比增长了1%，而本季度预计将实现5%的年增长。集成电路（IC）销售在上季度同比增长了22%，本季度预计将增长21%，这一增长主要得益于高性能计算（HPC）芯片出货量的增加以及存储芯片价格的持续改善。此外，IC库存在上季度也趋于稳定，预计本季度将进一步改善。


晶圆厂的已装机产能上季度增长了1.2%，本季度预计将增长1.4%，预计每季度将超过4000万片12英寸晶圆。大陆的产能增长率在各地区中，但晶圆厂的稼动率（尤其是成熟制程节点）仍然是一个担忧点，预计上半年不会有显著的复苏迹象。存储芯片厂的稼动率也低于预期，因为厂商继续控制供应量。


半导体行业的资本支出也呈现出与晶圆厂稼动率相同的趋势，保持谨慎态度。在去年第四季度年同比下降17%之后，今年季度又下降了11%，但预计第二季度将实现0.7%的小幅增长。本季度存储芯片相关的资本支出预计将增长8%，而非存储领域芯片的资本支出增长率将略高。

R_TRIG是指上升沿触发，其中R是英文RISE的缩写，是指上升的意思。顺便说一句，当初我刚接触的时候，总是把F_TRIG当成上升沿触发，因为我一看到F就理所当然的把它当成了上升，可能是这字母会产生上升的感觉吧，以至于做了很多的无用功，希望大家引以为戒。我们先看一下在LD和FBD中是如何实现上升沿和下降沿触发的图一LD实现边沿触发图二FBD实现边沿触发如图一图二所示，是分别用LD和FBD实现边沿触发，在这里LD直观的优势就体现出来了，FBD的边沿触发总有种怪怪的感觉，看上去很不直观。
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